产品展示
高分子复合材料绿色环保新型企业
精密光学领域
1. 光学器件
平面光学表面制备：光学器件通常需要非常平坦的表面以确保光的准确传输和反射。CMP技术能够将光学材料的表面加工至极高的平整度，消除微小凹凸和缺陷。
光学元件对准：在光学器件组装过程中，CMP处理可以实现光学元件之间的高度精确对准，从而提高整个光学系统的性能。
超表面制造：超表面（metasurface）是由微小尺寸的光学单元组成的平面二维结构，CMP可用于在超表面结构上形成高精度的微细图案，以实现精确的光学相位控制。
2. 激光器
激光器基板抛光：激光器（如LD和VCSEL）对基板表面的质量要求极高，通常要求表面粗糙度低于0.1μm，厚度极差小于10μm。CMP工艺是首选技术，能够满足这些高精度要求。
万桦新材料在该领域中有如下抛光耗材：
部分应用领域展示：
 |
 |
 |
 |
 |
 |
